Advanced Materials Technology HPLC-Säule HALO C4, 4000 Å, 3,4 μm, 3 x 20 mm

C4- und steril geschützte ES-C18-Phasen Hervorragende Hochtemperaturstabilität (bis zu 90 ° C) für verbesserte Peakform und Erholung 2 μm Einlassfritte Druckgrenze 600 bar / 9000 psi